可分為直流濺射；射頻濺射；磁控濺射；反應濺射四種。目前，直流濺射（又稱二次濺射）因其濺射壓力高、電壓高、濺射速率低、薄膜不穩定等缺點而很少使用在直流濺射的后期，
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主要是指一種需要在高真空下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發、磁控濺射、感應蒸發等多種方式，主要分為蒸發和濺射。
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是由真空系統、卷繞系統、磁控靶濺射系統、控制系統等部分組成，可實現2μm——?300μm的厚度薄膜上濺射鍍銅、鉛、鋁、錫、銀等，
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也就是真空卷繞鍍膜。是在真空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控制、
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是一臺高真空綜合設備，具有蒸發、濺射多種鍍膜方式同時使用功能，本設備主要用于在薄膜基材上連續蒸鍍單面、
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可以在PET,PVC,CPP,BOPP等塑料薄膜基材上連續蒸鍍單面金屬鋁，用于制造多種工業用的金屬化薄膜產品如包裝工業的煙酒包裝，
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是指在光學零件表面涂覆一層（或多層）金屬（或介質）薄膜的過程。光學零件表面涂層的目的是減少或增加光的反射、
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主要用于鍍膜,主要有感應蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜兩大類，對于感應蒸發鍍膜機，通常目標被加熱以原子團或離子的形式蒸發表面成分。
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